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• 200 1_ |a 光学投影曝光微纳加工技术 |A Guang Xue Tou Ying Pu Guang Wei Na Jia Gong Ji Shu |f 姚汉民，胡松，邢廷文著

• 210 __ |a 北京 |c 北京工业大学出版社 |d 2006

• 215 __ |a 285页 |c 图, 肖像 |d 26cm

• 225 2_ |a 电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著 |A Dian Zi Shu 、li Zi Shu 、guang Zi Shu Wei Na Jia Gong Ji Shu Xi Lie Zhuan Zhu

• 300 __ |a 国家科学技术学术著作出版基金资助

• 320 __ |a 有书目

• 330 __ |a 本书系列介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用实例和发展前景，特别详细介绍了投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成等。

• 410 _0 |1 2001 |a 电子束、离子束、光子束微纳加工技术系列专著

• 606 0_ |a 光学投影系统 |A Guang Xue Tou Ying Xi Tong |x 电子束光刻

• 690 __ |a TH761.8 |v 4

• 690 __ |a TN405 |v 4

• 701 _0 |a 姚汉民, |A Yao Han Min |f 1944- |4 著

• 701 _0 |a 胡松, |A Hu Song |f 1965- |4 著

• 701 _0 |a 邢廷文, |A Xing Ting Wen |f 1965- |4 著

• 801 _0 |a CN |b CEPC |c 20061103

• 905 __ |a JHUL |d TH761.8/1