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• 200 1_ |a 光弹性应力分析 |A guang tan xing ying li fen xi |f (英)柯斯克(A.Kuske),(英)罗伯逊(G.Robertson)著 |g 王燮山等译

• 210 __ |a 上海 |c 上海科学技术出版社 |d 1979

• 215 __ |a 515页 |d 20cm

• 300 __ |a 书名原文:Photoelastic stress analysis

• 510 1_ |a Photoelastic stress analysis |z eng

• 606 0_ |a 光弹性 |A Guang Tan Xing |x 应力分析

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• 690 __ |a O348.1 |v 4

• 692 __ |a 52.58

• 701 _1 |a 柯斯克 |A ke si ke |g (Kuske,Albrecht) |4 著

• 701 _1 |a 罗伯逊 |A luo bo xun |g (Robertson,George ) |4 著

• 702 _0 |a 王燮山 |A wang xie shan |4 译

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