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- 010 __ |a 978-7-5024-6227-7 |d CNY26.00
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- 200 1_ |a 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟 |A duo hu li zi du chen ji guo cheng de ji suan ji mo ni |f 赵时璐著
- 210 __ |a 北京 |c 冶金工业出版社 |d 2013
- 215 __ |a 232页 |c 图 |d 21cm
- 320 __ |a 有书目 (第227-232页)
- 330 __ |a 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章,主要内容包括:绪论;真空镀膜技术的介绍;多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础;多弧离子镀物理过程的分析;计算机模拟技术;数学模型的建立;程序的编制等。
- 606 0_ |a 计算机模拟 |A ji suan ji mo ni |x 应用 |x 离子镀 |x 研究
- 690 __ |a TG174.444-39 |v 5
- 701 _0 |a 赵时璐 |A zhao shi lu |4 著
- 801 _0 |a CN |b ZJU |c 20130605
- 905 __ |a JHUD |d TG174.444/1