MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：30
- 题名/责任者:
- 纳米集成电路制造工艺/张汝京等编著
- 版本说明:
- 第2版
- 出版发行项:
- 北京:清华大学出版社,2017
- ISBN及定价:
- 978-7-302-45233-1/CNY89.00
- 载体形态项:
- xiv, 471页:图;26cm
- 个人责任者:
- 张汝京 编著
- 学科主题:
- 纳米材料-集成电路工艺
- 中图法分类号:
- TN405
- 提要文摘附注:
- 本书共分19章, 涵盖先进集成电路工艺的发展史, 集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化, 器件参数与工艺相关性, DFM (Design for Manufacturing), 集成电路检测与分析、集成电路的可靠性, 生产控制, 良率提升, 芯片测试与芯片封装等项目和课题。
- 使用对象附注:
- 本书适合国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用本书作为教科书或参考资料
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