MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：12
- 题名/责任者:
- 完美曝光/(美) Rick Sammon著 张波译
- 出版发行项:
- 北京:人民邮电出版社,2010
- ISBN及定价:
- 978-7-115-21580-2/CNY65.00
- 载体形态项:
- 14, 215页:图 (部分彩图);26cm
- 统一题名:
- Exploring the light
- 个人责任者:
- 沙蒙 (Sammon, Rick) 著
- 个人次要责任者:
- 张波 译
- 学科主题:
- 曝光-摄影技术
- 中图法分类号:
- J41
- 出版发行附注:
- 由W. W. Norton & Company公司授权出版
- 责任者附注:
- 责任者Sammon规范汉译姓: 沙蒙
- 提要文摘附注:
- 本书讲解了曝光在摄影中的重要作用，以及获取出色曝光的途径和技法。分析不同类型的光线、感光度和白平衡设置、曝光模式和测光模式选择、包围曝光和曝光补偿等，并介绍了闪光灯曝光、色彩模式、自然光控制、直方图、Photoshop后期处理等知识。
全部MARC细节信息>>