MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：13
- 题名/责任者:
- 光学投影曝光微纳加工技术/姚汉民，胡松，邢廷文著
- 出版发行项:
- 北京:北京工业大学出版社,2006
- ISBN及定价:
- 7-5639-1669-5/CNY46.00
- 载体形态项:
- 285页:图, 肖像;26cm
- 个人责任者:
- 姚汉民, 1944- 著
- 个人责任者:
- 胡松, 1965- 著
- 个人责任者:
- 邢廷文, 1965- 著
- 学科主题:
- 光学投影系统-电子束光刻
- 中图法分类号:
- TH761.8
- 中图法分类号:
- TN405
- 一般附注:
- 国家科学技术学术著作出版基金资助
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书系列介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用实例和发展前景，特别详细介绍了投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成等。
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