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- 题名/责任者:
- 含硅聚合物:合成与应用/(美) 理查德 G.琼斯, (日) 安藤亘, (波兰) 朱利安·乔努斯基等编 冯圣玉, 栗付平, 李美江等译
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2008
- ISBN及定价:
- 978-7-122-01724-6/CNY88.00
- 载体形态项:
- 574页:图;24cm
- 个人责任者:
- 琼斯 (Jones, Richard G.) 编
- 个人责任者:
- 安藤亘 编
- 个人责任者:
- 乔努斯基 (Chojnowski, Julian) 编
- 个人次要责任者:
- 冯圣玉 译
- 个人次要责任者:
- 栗付平 译
- 个人次要责任者:
- 李美江 译
- 学科主题:
- 含硅高聚物
- 中图法分类号:
- O634.4
- 相关题名附注:
- 并列题名和副题名取自封面
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 该书参考了相关领域若干知名专家的研究成果, 比较系统地介绍了含硅聚合物的合成及应用技术。全书共分4篇。前3篇介绍了聚硅氧烷、聚碳硅烷和聚硅氮烷、聚硅烷及相关聚合物的合成、改性技术,结构与性能,以及应用技术等；第4篇介绍了含硅聚合物面临的挑战以及令人感兴趣的领域，包括含硅乙烯基单体及聚合物、有机硅高分子液晶、有机硅树枝状大分子、光学活性有机硅聚合物、有机硅酸酯低聚物与纳米结构材料等。
- 使用对象附注:
- 可供从事有机硅科研、生产、应用的技术人员阅读，也可作为相关院校师生的教书
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