MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：24
- 题名/责任者:
- 集成电路工艺中的化学品/戴猷元, 张瑾编
- 出版发行项:
- 北京:化学工业出版社,2007
- ISBN及定价:
- 978-7-5025-9934-8/CNY28.00
- 载体形态项:
- 188页:图;24cm
- 个人责任者:
- 戴猷元 编
- 个人责任者:
- 张瑾 编
- 学科主题:
- 化工产品-应用-集成电路工艺
- 中图法分类号:
- TN405
- 书目附注:
- 有书目 (第173-186页)
- 提要文摘附注:
- 本书包括7章内容，即：薄膜制备技术及化学品、晶片清洗技术及化学品、光刻技术及化学品、刻蚀技术及化学品等。
- 提要文摘附注:
- 作为一本资料信息型参考书，《集成电路工艺中的化学品》共7章，内容包括序言、薄膜制备技术及化学品、晶片清洗技术及化学品、光刻技术及化学品、刻蚀技术及化学品、化学机械抛光技术及化学品、载气及其他化学品。2～6章的内容都与集成电路制造过程的关键技术领域相关。在各章的开始，提供了集成电路制造过程关键技术的概述、所涉及的化学反应机理等，然后详细提供工艺中用到的化学品的物理化学性质、应用描述、毒性及安全等相应信息。
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