MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：49
- 题名/责任者:
- MOS集成电路工艺与制造技术/潘桂忠编著
- 出版发行项:
- 上海:上海科学技术出版社,2012
- ISBN及定价:
- 978-7-5478-0980-8/CNY85.00
- 载体形态项:
- 489页:图;26cm
- 个人责任者:
- 潘桂忠 编著
- 学科主题:
- MOS集成电路-集成电路工艺
- 中图法分类号:
- TN432.05
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书介绍了硅集成电路制造技术中的基础工艺，内容包括硅衬底与清洗、氧化、扩散、离子注人、外延、化学气相淀积、光刻与腐蚀/刻蚀、金属化与多层布线、表面钝化以及工艺集成制造技术等。
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