MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：50
- 题名/责任者:
- 多弧离子镀沉积过程的计算机模拟/赵时璐著
- 出版发行项:
- 北京:冶金工业出版社,2013
- ISBN及定价:
- 978-7-5024-6227-7/CNY26.00
- 载体形态项:
- 232页:图;21cm
- 个人责任者:
- 赵时璐 著
- 学科主题:
- 计算机模拟-应用-离子镀-研究
- 中图法分类号:
- TG174.444-39
- 书目附注:
- 有书目 (第227-232页)
- 提要文摘附注:
- 本书系统介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章，主要内容包括：绪论；真空镀膜技术的介绍；多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础；多弧离子镀物理过程的分析；计算机模拟技术；数学模型的建立；程序的编制等。
全部MARC细节信息>>