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MARC状态：审校　 文献类型：中文图书　浏览次数：48　

题名/责任者:
真空镀膜原理与技术/方应翠主编
出版发行项:
北京:科学出版社,2014
ISBN及定价:
978-7-03-039898-7/CNY38.00
载体形态项:
213页:图;24cm
个人责任者:
方应翠 主编
学科主题:
真空技术-镀膜
中图法分类号:
TN305.8
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书阐述了真空镀膜的应用，以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程，探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。
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TN305.8/2 A1614134  - 自科典藏库（5楼）     导航 可借
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