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MARC状态:审校  文献类型:中文图书 浏览次数:28 

题名/责任者:
半导体硅锗中的离子注入/(美)迈耶(J.W.Mayer等著 余怀之等译
出版发行项:
北京:科学出版社,1979
载体形态项:
290页;19cm
并列正题名:
Ion implantation in semiconductors silicon and germanium
个人责任者:
迈耶 (Mayer, James W.)
个人次要责任者:
余怀之
学科主题:
元素半导体-硅-离子注入
学科主题:
元素半导体-锗-离子注入
中图法分类号:
TN305.3
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 定位信息 书刊状态
TN305.3/1 A0535124   样本密集书库     导航 阅览
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