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MARC状态:审校  文献类型:中文图书 浏览次数:19 

题名/责任者:
大规模集成电路的未来技术/(日)西泽润一编 杨世良,林 觶译
出版发行项:
北京:科学出版社,1988.8
ISBN及定价:
7-03-000414-0/$4.00
载体形态项:
342页;19厘米
编目员补充题名:
大规模集成电路的未来技术
个人责任者:
西泽润一
个人责任者:
杨世良
个人责任者:
林觶
学科主题:
大规模集成电路
中图法分类号:
TN47
科图法分类号:
73.7551
提要文摘附注:
本书介绍了多晶硅薄膜、半绝缘多晶硅薄膜及金属硅化物的生长技术和生成机理;利用光致发光法评价硅晶体性能的技术,以及大规模集成电路的微细加工技术等。
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